電弧等離子體涂層設(shè)備組成：

1.等離子系統(tǒng)：陰極靶、弧電流源、偏壓電源;

2.真空系統(tǒng)：真空腔、真空機(jī)組、空測控;

3.控制系統(tǒng)：可編程控制器（PLC）、觸摸屏、控制軟件、起弧電路。

板材真空鍍膜涂層設(shè)備

世創(chuàng)涂層機(jī)的特色：

1.靶結(jié)構(gòu)好 ——穩(wěn)定，靶材利用率高。

2.離化率高——能充分離化工藝氣體參與反應(yīng)，結(jié)合力、膜層沉積效率高。

3.可選配復(fù)合多弧離子鍍工藝，降低涂層的硬度梯度，進(jìn)一步提高結(jié)合力。

4.可選配低能離子刻蝕裝置與工藝，對工件表面進(jìn)行離子清洗，而不損傷產(chǎn)品表面。

5.起弧電路——脈沖高壓，沒有機(jī)械動(dòng)作，穩(wěn)定可靠

6強(qiáng)大的工藝、設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)。

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