世創(chuàng)科技獨(dú)有的離子束輔助沉積技術(shù)

離子束輔助沉積技術(shù)（世創(chuàng)離子源系統(tǒng)），源自于中俄涂層科技合作的成果。該系統(tǒng)的基本原理是在工藝進(jìn)行氣體離子刻蝕清洗階段，采用電弧離子鍍膜系統(tǒng)中相對(duì)的一對(duì)沉積用陰極電弧靶通過(guò)控制電路對(duì)弧電源的切換組成一對(duì)串聯(lián)的陰極靶與陽(yáng)極靶，陽(yáng)極靶前配有擋板裝置，只允許氣體離子通過(guò)，形成一個(gè)離子源系統(tǒng)。該系統(tǒng)根據(jù)涂層機(jī)真空室大小及電弧靶的多少，可設(shè)置1個(gè)或多個(gè)離子源系統(tǒng)，并可高低按需分布，達(dá)到均勻覆蓋有效工作區(qū)域的要求。離子源氣體離子刻蝕強(qiáng)度可通過(guò)控制弧電源的輸入功率進(jìn)行調(diào)節(jié)。在進(jìn)入沉積工藝階段時(shí)各靶又切換回沉積用陰極靶進(jìn)行正常的沉積陰極靶使用。沉積陰極靶和離子源系統(tǒng)靶的切換是在工藝流程設(shè)定中由電腦程序自動(dòng)切換，全自動(dòng)運(yùn)行。

目前該系統(tǒng)已申報(bào)國(guó)家專利《一種多功能等離子體增強(qiáng)涂層系統(tǒng)》專利號(hào)201220594109.9。對(duì)西安430廠用戶使用的世創(chuàng)公司SC1300航空葉片涂層機(jī)生產(chǎn)的調(diào)研反饋得知，該結(jié)構(gòu)離子源使工件表面刻蝕清洗效果明顯提高，沉積后的涂層結(jié)合力更好。

與常規(guī)涂層相比，采用世創(chuàng)離子源涂層的優(yōu)勢(shì)

世創(chuàng)涂層設(shè)備靶材利用率超過(guò)80%

在真空等離子電弧鍍生產(chǎn)過(guò)程中，靶材是一種費(fèi)用較大的耗材，特別是使用一些貴重材料制成的靶材，價(jià)格昂貴，如果在使用過(guò)程中靶材的利用率不高的話，浪費(fèi)是非常驚人的，同時(shí)增加了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。

傳統(tǒng)技術(shù)的圓餅形電弧靶存在問題是靶材工作面的邊緣弧斑很少燒蝕到，變成靶面燒蝕呈鍋底凹狀，靶材的利用率很低；目前多數(shù)設(shè)備的靶材利用率不超過(guò)50%。。同時(shí)要經(jīng)常人工觀察，手工調(diào)整，不利于涂層設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間的連續(xù)工作。

世創(chuàng)科技的真空等離子鍍膜機(jī)，是與俄羅斯專家的共同研究與開發(fā)的，用電磁起弧代替?zhèn)鹘y(tǒng)的起弧方式，在靶表面形成等離子弧斑在靶的整個(gè)表面進(jìn)行均勻灼燒，直到起弧裝置的觸點(diǎn)為止，而新型電磁多弧靶的起弧觸點(diǎn)位置接近靶的底部，從而保證了靶材的使用率大于80%以上。

使用前后靶材尺寸變化

“世創(chuàng)鍍膜機(jī)不僅僅是一臺(tái)設(shè)備，它是我們對(duì)完美的追求！“

世創(chuàng)科技相繼在2015年和2018年中標(biāo)西安某一公司和無(wú)錫某一公司以來(lái)，2019年11月再次與陜西某一公司簽訂了耐熱涂層機(jī)設(shè)備的供貨合同。這充分體現(xiàn)了世創(chuàng)的涂層機(jī)逐步在航空發(fā)動(dòng)機(jī)領(lǐng)域打開了局面。目前世創(chuàng)的科研技術(shù)人員正在此領(lǐng)域深耕細(xì)作，使該設(shè)備在我國(guó)航空發(fā)動(dòng)機(jī)行業(yè)繼續(xù)發(fā)揚(yáng)光大。

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